使用真空燒結爐主要的目的就是為了加熱，在加熱過程中需要要求加熱速率快，選用的加熱材料一定要保證熱導率好，并且在高溫下不能產生變形和大量的熱損失，要保證在使用過程中在一段時間內性能要穩定。 　　所以，在選取加熱元件時也要根據自己所需處理產品的化學性能，以免真空燒結爐加熱元件的材質影響到工件的質量。因此，真空爐要合理的選取加熱元件。 　　有時在使用爐子工作時，試驗中如果有液體存在，就需要一個真空燒結爐的液體蒸發的過程(高真空下不需要加熱也能氣化)，可以通過長時間拉真空來氣化掉這部分液體從而達到高真空(等穩定)。如果長時間都達不到目標氣壓的話，就要考慮系統和羅茨泵了，你可以直接測一下羅茨泵的極限真空(不接入其他系統)，若完好則就是系統的密封性能了。 　　又因為決定真空燒結爐的散熱片效率的主要因素是散熱片的散熱面積和散熱片里面的介質流速(與介質的溫度關系不大)，并且同等溫差的同等循環水量所攜帶的熱量相同。真空熱水鍋爐區別于傳統鍋爐(95/70℃)在散熱器供暖系統上主要是房間的加熱時間比傳統鍋爐慢4～5分鐘。

　　高溫石墨化爐有什么作用： 　　高溫石墨化爐一種真空石墨化爐，主要應用聚酰亞胺膜（PI膜）石墨化、石墨烯膜石墨化，使之成為高導熱石墨膜。高溫石墨化爐也可應用于負極材料、碳素材料及碳碳、碳陶復合材料的燒結和石墨化，還可應用于工業陶瓷，粉末冶金材料等產品的高溫燒結和石墨化。 　　高溫石墨化爐穩定運行溫度可達3100℃（保溫2小時以上），是目前工業量產石墨化爐領域內實現連續穩定運行達到的***高溫度，甚至超過絕大部分小型實驗爐。 　　持續穩定在3100℃的超高溫可以使產品均勻充分的石墨化，大幅提高產品的導熱性能，大幅提高良品率。 　　高溫石墨化爐成套設備主要由一臺中頻電源控制2個爐體，爐體由高溫爐殼組件、爐膛加熱及保溫組件、電氣控制系統、電容補償系統、真空系統、測溫控溫系統及設備平臺組成。除投送料外，實現真正的全自動一鍵開機、關機，多方位保護，全程無需人工干預。是目前***適合石墨烯導熱膜石墨化工藝（工作溫度3100℃以上）。